Computational i-line proximity lithography approaching sub-micrometer resolution

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标题	Computational i-line proximity lithography approaching sub-micrometer resolution 相关领域材料科学平版印刷术分辨率（逻辑）计算光刻光学物理高分辨率光刻邻近效应（电子束光刻）计算机科学
网址	https://doi.org/10.1364/optica.582987
DOI	10.1364/optica.582987 doi
其它	期刊：Optica 作者：Guangbiao Wang; Yanhua Shen; Yazhi Pi; Lei Wang; Yan ZHOU; et al 出版日期：2026-02-25
求助人	笑点低的豌豆在 2026-05-03 13:09:03 发布自吉林，悬赏 10 积分
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