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Selective pulsed chemical vapor deposition of water-free HfOx on Si in preference to SiCOH and passivated SiO2 |
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期刊:Applied Surface Science 作者:Jong Youn Choi; Christopher F. Ahles; Yunil Cho; Ashay Anurag; Keith T. Wong; et al 出版日期:2020 |
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(2025-6-4)