Layout dependent effects analysis on 28nm process

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标题	Layout dependent effects analysis on 28nm process 相关领域计算机科学过程（计算）多重图案
网址	https://doi.org/10.1117/12.2087443
DOI	10.1117/12.2087443 doi
其它	期刊：Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX 作者：John L. Sturtevant; Luigi Capodieci; Helen Li; Mealie Zhang; Waisum Wong; et al 出版日期：2015
求助人	Denny 在 2021-05-19 14:23:03 发布，悬赏 10 积分
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