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(Invited) Impact of the Metal Gate on the Oxide Stack Quality Assessed by Low-Frequency Noise
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网址
https://doi.org/10.1149/08004.0069ecst
DOI
10.1149/08004.0069ecst doi
其它 期刊：ECS Transactions
作者：Eddy Simoen; Liang He; Barry O’Sullivan; A. Veloso; Naoto Horiguchi; et al
出版日期：2017-08-01
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Yuksn 在 2025-11-14 15:57:32 发布自福建，悬赏 10 积分
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