Atomic InOx motif-mediated cross-linking in PMMA via sequential infiltration synthesis for negative-tone lithography

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标题	Atomic InOx motif-mediated cross-linking in PMMA via sequential infiltration synthesis for negative-tone lithography
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsadv.2026.101003
DOI	10.1016/j.apsadv.2026.101003 doi
其它	期刊：Applied Surface Science Advances 作者：Minkyung Ko; Jiwoong Ham; Young Heon Kim; Hyeong-U Kim; Nari Jeon 出版日期：2026
求助人	79 在 2026-05-24 19:36:07 发布自山东，悬赏 10 积分
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