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 Unraveling the reaction mechanisms in a chemically-amplified EUV photoresist from a combined theoretical and experimental approach 从理论和实验相结合的方法揭示化学放大EUV光致抗蚀剂的反应机理
相关领域
光刻胶
极紫外光刻
材料科学
纳米技术
图层（电子）
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期刊： 作者：Laura Galleni; D. P. Singh; Thierry Conard; Geoffrey Pourtois; P.A.W. van der Heide; et al 出版日期：2025-04-22 |
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