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Lowering Band Gap of an Electroactive Metal–Organic Framework via Complementary Guest Intercalation 通过互补客体插层降低电活性金属-有机骨架的带隙
相关领域
材料科学
插层(化学)
四硫富瓦烯
离域电子
带隙
金属有机骨架
电子受体
兴奋剂
金属
配体(生物化学)
平面的
电子离域
接受者
无机化学
光化学
光电子学
凝聚态物理
分子
有机化学
化学
生物化学
受体
计算机图形学(图像)
吸附
物理
计算机科学
冶金
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| DOI | |
| 其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Zhiyong Guo; Dillip K. Panda; Mónica A. Gordillo; Amina Khatun; Hui Wu; et al 出版日期:2017-09-05 |
| 求助人 | |
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