| 标题 |
 Material Removal Model of Chemical Mechanical Polishing Based on Genetic Algorithm and Neural Network Optimization 基于遗传算法和神经网络优化的化学机械抛光材料去除模型
相关领域
抛光
平坦度（宇宙学）
化学机械平面化
压扁
表面粗糙度
人工神经网络
遗传算法
材料科学
机械工程
计算机科学
表面光洁度
纳米
算法
工程类
复合材料
人工智能
物理
机器学习
量子力学
宇宙学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：2022 IEEE 2nd International Conference on Mobile Networks and Wireless Communications (ICMNWC) 作者：Chenghao Feng; Xiaopeng Lan 出版日期：2022-12-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
eric888
ceeray23
浮游
竹筏过海
GingerF
GPTea
称心妙竹
追寻元菱
Alex
Yoanna
Criminology34
昏睡的傻姑
爱静静
morena
从容芮
生椰拿铁死忠粉
蕊蕊
Rita
小马同学
lmy
122319
遇上就这样吧
等待的香魔
肖子瑶
tdbjyoung
zsyhcl
子车茗
区区
皖公网安备34019202002308
