A Difference in Using Atomic Layer Deposition or Physical Vapour Deposition TiN as Electrode Material in Metal-Insulator-Metal and Metal-Insulator-Silicon Capacitors

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标题	[高分] A Difference in Using Atomic Layer Deposition or Physical Vapour Deposition TiN as Electrode Material in Metal-Insulator-Metal and Metal-Insulator-Silicon Capacitors
网址	https://doi.org/10.1166/jnn.2011.5036
DOI	10.1166/jnn.2011.5036 doi
其它	期刊：Journal of Nanoscience and Nanotechnology 作者：A. W. Groenland; R. A. M. Wolters; A. Y. Kovalgin; J. Schmitz 出版日期：2011
求助人	111 在 2026-03-24 11:47:36 发布自天津，悬赏 150 积分
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