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标题
Effect of Magnetron Sputtering Power on ITO Film Deposition at Room Temperature
室温磁控溅射功率对ITO薄膜沉积的影响
相关领域
材料科学 溅射沉积 腔磁控管 纳米晶材料 溅射 高功率脉冲磁控溅射 光电子学 沉积(地质) 表面粗糙度 电阻率和电导率 薄膜 复合材料 纳米技术 电气工程 古生物学 沉积物 生物 工程类
网址
DOI
10.1134/s1063739723700452 doi
其它 期刊:Russian Microelectronics
作者:А В Саенко; З. Е. Вакулов; В. С. Климин; G. E. Bilyk; S. P. Malyukov
出版日期:2023-08-01
求助人
ZYL 在 2024-05-22 00:29:32 发布自广东,悬赏 10 积分
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