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![]() 室温磁控溅射功率对ITO薄膜沉积的影响
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期刊:Russian Microelectronics 作者:А В Саенко; З. Е. Вакулов; В. С. Климин; G. E. Bilyk; S. P. Malyukov 出版日期:2023-08-01 |
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