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Wet etch clean-up of plasma damage for 1.68 kV breakdown in NiO/β-Ga2O3 chlorine-etched PN diodes 相关领域
非阻塞I/O
材料科学
二极管
等离子体
氯
光电子学
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Audrey Rose Gutierrez; Joseph Spencer; Alan G. Jacobs; Yuan Qin; Jenifer R. Hajzus; et al 出版日期:2025-05-01 |
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