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Silicon Dioxide Deposited Using Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition for Improved Adhesion and Water Intrusion Resistance for Lightweight Manufacturing
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期刊:Surfaces and Interfaces 作者:Zachary Jeckell; Dhruval Patel; Andrew Herschberg; Tag Choi; D. Eitan Barlaz; et al 出版日期:2021-04-01 |
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