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标题
Generation of very fast states by nitridation of the SiO2/SiC interface
相关领域
材料科学 碳化硅 光电子学 工程物理 分析化学（期刊） 硅 退火（玻璃） 氮化物 渗氮 接口（物质） 外延 物理 复合材料 毛细管数 毛细管作用
网址
https://doi.org/10.1063/1.4740068
DOI
10.1063/1.4740068 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Hironori Yoshioka; Takashi Nakamura; Tsunenobu Kimoto
出版日期：2012
求助人
妞妞 在 2021-03-22 16:05:12 发布，悬赏 10 积分
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