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 Effects of post deposition annealing atmosphere on interfacial and electrical properties of HfO2/Ge3N4 gate stacks 沉积后退火气氛对HfO2/Ge3N4栅堆叠界面和电学性能的影响
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期刊：Thin Solid Films 作者：Kumar Mallem; S. V. Jagadeesh Chandra; Minkyu Ju; Subhajit Dutta; Swagata Phanchanan; et al 出版日期：2019-02-20 |
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