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 Effects of vacuum ultraviolet photons, ion energy and substrate temperature on line width roughness and RMS surface roughness of patterned 193 nm photoresist 真空紫外光子、离子能量和衬底温度对图案化193nm光刻胶线宽粗糙度和均方根表面粗糙度的影响
相关领域
表面粗糙度
材料科学
分析化学（期刊）
表面光洁度
毯子
辐照
化学
复合材料
物理
色谱法
核物理学
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期刊：Journal of Physics D Applied Physics 作者：M. J. Titus; David B. Graves; Yuya Yamaguchi; Eric A. Hudson 出版日期：2011-02-08 |
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