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 Dependence of absolute photon flux on infrared absorbance alteration and surface roughness on photoresist polymers irradiated with vacuum ultraviolet photons emitted from HBr plasma HBr等离子体发射的真空紫外光子辐照光刻胶聚合物的绝对光子通量对红外吸光度变化和表面粗糙度的依赖性
相关领域
光刻胶
辐照
紫外线
光子
分析化学（期刊）
材料科学
化学
红外线的
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光学
光电子学
核磁共振
物理
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核物理学
色谱法
图层（电子）
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yan Zhang; Takuya Takeuchi; Kenji Ishikawa; Toshio Hayashi; Keigo Takeda; et al 出版日期：2017-11-15 |
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