| 标题 |
 Plasma-based isotropic etching polishing of synthetic quartz 相关领域
等离子体刻蚀
反应离子刻蚀
表面粗糙度
等离子体
干法蚀刻
雕刻
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| 网址 | |
| DOI |
10.1016/j.jmapro.2020.10.075
doi
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| 其它 |
期刊：Journal of Manufacturing Processes 作者：Rulin Li; Yongjie Zhang; Yi Zhang; Wang Liu; Yaguo Li; Hui Deng 出版日期：2020 |
| 求助人 |
freddy 在
2020-12-10 03:24:12 发布，悬赏 10 积分
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