Modulation of the effective work function of TiN metal gate for PMOS application

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标题	Modulation of the effective work function of TiN metal gate for PMOS application 相关领域金属浇口材料科学工作职能 PMOS逻辑光电子学锡 CMOS芯片 MOSFET 逻辑门电气工程氧化物兴奋剂晶体管
网址	https://doi.org/10.1088/1674-4926/34/8/086002
DOI	10.1088/1674-4926/34/8/086002 doi
其它	期刊：Journal of Semiconductors 作者：Kai Han; Xueli Ma; Hong Yang; Wenwu Wang 出版日期：2013
求助人	Denny 在 2021-11-24 09:19:54 发布，悬赏 10 积分
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