Atomistic Insights on Hydrogen Plasma Treatment for Stabilizing High-k/Si Interfaces

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标题	Atomistic Insights on Hydrogen Plasma Treatment for Stabilizing High-k/Si Interfaces 相关领域悬空债券氢材料科学钝化化学物理等离子体氧化物泄漏（经济）分子动力学硅分析化学（期刊）光电子学纳米技术化学图层（电子）计算化学冶金物理宏观经济学经济有机化学色谱法量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.153297
DOI	10.1016/j.apsusc.2022.153297 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Byungjo Kim; Muyoung Kim; Suyoung Yoo; Sang Ki Nam 出版日期：2022-04-01
求助人	online1881 在 2022-11-27 11:51:11 发布自江苏，悬赏 10 积分
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