Plasma‐Induced Nanocrystalline Domain Engineering and Surface Passivation in Mesoporous Chalcogenide Semiconductor Thin Films

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标题	Plasma‐Induced Nanocrystalline Domain Engineering and Surface Passivation in Mesoporous Chalcogenide Semiconductor Thin Films 相关领域钝化材料科学介孔材料硫系化合物纳米晶材料半导体纳米技术薄膜多孔性化学工程光电子学图层（电子）复合材料化学催化作用工程类生物化学
网址	https://doi.org/10.1002/anie.202114729
DOI	10.1002/anie.202114729 doi
其它	期刊：Angewandte Chemie 作者：Aditya Ashok; Arya Vasanth; Tomota Nagaura; Miharu Eguchi; Nunzio Motta; et al 出版日期：2022-02-11
求助人	烬言在 2023-03-22 21:30:41 发布自江苏，悬赏 10 积分
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