Remote microwave plasma source for cleaning chemical vapor deposition chambers: Technology for reducing global warming gas emissions

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标题	Remote microwave plasma source for cleaning chemical vapor deposition chambers: Technology for reducing global warming gas emissions
网址	https://pubs.aip.org/avs/jvb/article-pdf/17/2/477/8203071/47...
DOI	10.1116/1.590580 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 作者：S. Raoux; T. Tanaka; M. Bhan; H. Ponnekanti; M. Seamons; et al 出版日期：2002-07-27
求助人	帅气夜云在 2026-03-23 18:44:26 发布自上海，悬赏 10 积分
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