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 Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride and silicon carbonitride using a single source precursor and different plasmas 相关领域
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Samuel M. Johnson; Jianping Zhao; Tsung-Hsuan Yang; Toshihiko Iwao; Charles Schlechte; et al 出版日期：2025-05-01 |
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