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 Correlation between sputtering method, microstructure and properties of TiOx thin films deposited by reactive direct-current and high-power impulse magnetron sputtering 反应直流和大功率脉冲磁溅镀TiOx薄膜的溅镀方法、微观结构和性能的相关性
相关领域
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期刊：Thin Solid Films 作者：Younes Lablali; Rachid Oubaki; Anas Ghailane; Jones Alami; M. Makha 出版日期：2024-11-01 |
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楼萌黑
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