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Scale-free ferroelectricity induced by flat phonon bands in HfO 2

铁电性 声子 比例（比率） 凝聚态物理 材料科学 物理 光电子学 量子力学 电介质
作者
Hyun Lee,Minseong Lee,Kyoungjun Lee,Jinhyeong Jo,Hye-Mi Yang,Yungyeom Kim,Seung Chul Chae,Umesh V. Waghmare,Jun Yeob Lee
出处
期刊：Science [American Association for the Advancement of Science (AAAS)]
日期：2020-09-11 卷期号：369 (6509): 1343-1347 被引量：160
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1126/science.aba0067
摘要
The atomic-scale structure of hafnium oxide explains ferroelectric properties for very thin films.
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