The effect of vacancy on the interfacial diffusion in Cu/Sn lead-free solder joints

空位缺陷 扩散 活化能 材料科学 扩散阻挡层 晶格扩散系数 化学物理 结晶学 热力学 有效扩散系数 化学 物理化学 纳米技术 物理 图层(电子) 磁共振成像 放射科 医学
作者
Li Yang,Xiaoyan Li,Peng Yao
出处
期刊:Soldering & Surface Mount Technology [Emerald Publishing Limited]
卷期号:31 (1): 28-39 被引量:8
标识
DOI:10.1108/ssmt-03-2018-0010
摘要

Purpose The purpose of this paper is to investigate the diffusion behaviors of different atoms at the Cu/Cu3Sn interface and the vacancy formation energy, diffusion energy barrier and vacancy diffusion activation energy. Design/methodology/approach The diffusion behaviors of different atoms at the Cu/Cu3Sn interface are analyzed, and the vacancy formation energy, diffusion energy barrier and vacancy diffusion activation energy are obtained using molecular dynamics simulation. The nudged elastic band method is used to evaluate diffusion energy barrier for Cu/Cu3Sn system. Findings It is found that the vacancies in the Cu/Cu3Sn interface promote the interfacial diffusion, and the formation energy of Cu vacancy in the Cu crystal is larger than that in Cu3Sn crystal. In addition, the formation energies of Cu1 vacancy and Cu2 vacancy are close to each other in Cu3Sn crystal, and they are all less than the formation energy of Sn vacancy. Furthermore, the vacancy diffusion barrier and vacancy diffusion activation energy of the Cu/Cu3Sn interface are calculated, and the results show that the vacancy diffusion activation energy of Sn was higher than that of Cu. Finally, by comparison of diffusion activation energies of different diffusion mechanisms, Cu→Cu1vac is the most possible migration path at all temperatures. Originality/value It is concluded that the vacancies in Cu/Cu3Sn interface promote interfacial diffusion, and the activation energy of vacancy diffusion in most diffusion mechanisms decreases with the increase of temperature.
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