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Process optimization for high electron mobility in nMOSFETs with aggressively scaled HfO/sub 2//metal stacks
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作者
Vijay Narayanan,
K. Maitra,
B.P. Linder,
Vamsi Paruchuri,
E. P. Gusev,
P. Jamison,
Martin M. Frank,
M. Steen,
D. La Tulipe,
John Arnold,
R. Carruthers,
D. Lacey,
E. Cartier
出处
期刊：
IEEE Electron Device Letters
[Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2006-06-28
卷期号：27 (7): 591-594
被引量：46
标识
DOI：10.1109/led.2006.876312
摘要
The performance of aggressively scaled (1.4nm
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