发布文献求助

清晨好，您是今天最早来到科研通的研友！由于当前在线用户较少，发布求助请尽量完整地填写文献信息，科研通机器人24小时在线，伴您科研之路漫漫前行！

专一的沛白

Lv1

10 积分 2024-01-24 加入

最近求助
最近应助
互助留言

SF6/O2 plasma for ICP/RIE SiC Etching 1个月前 已完结
A Modified Bosch Process of SF6/C4F8/O2 ICP-RIE Si Etching 3个月前 已完结
Influence of the Masking Material and Geometry on the 4H-SiC RIE Etched Surface State 6个月前 已完结
The Rules of Standard Setting Organizations: An Empirical Analysis 7个月前 已完结
Helium Ion‐Assisted Wet Etching of Silicon Carbide with Extremely Low Roughness for High‐Quality Nanofabrication 7个月前 已完结

没有进行任何应助

没有进行任何互助留言

最近帖子
最近评论

没有发布任何帖子

没有发布任何评论

Copyright © 2020-2026 AbleSci.COM, 科研通, All Right Reserved

科研通是非营利科研互助平台，不忘初心，为科研助力

本站互助的所有文件仅供个人学习研究用，禁止任何人把求助的所得文献进行盈利或传播

皖ICP备2024041134号-1

皖公网安备34019202002308

科研通【文献互助QQ群】：如果您有特殊求助，或发布求助超过24小时未得到应助，可加群求助，群号：821889395【点击一键加群】

科研通【志愿服务QQ群】：如果您热爱文献互助，有热心愿意为更多人服务，请加入小伙伴群，点击申请加入

关注微信服务号

科研通