SciHub
文献互助
期刊查询
一搜即达
科研导航
即时热点
交流社区
登录
注册
发布
文献
求助
首页
我的求助
捐赠本站
圆圆
Lv2
1
126 积分
2024-02-27 加入
最近求助
最近应助
互助留言
Electrical characterization of radio-frequency parallel-plate capacitively coupled discharges
3小时前
已完结
Electrical impedance analysis and etch rate maximization in NF3/Ar discharges
3小时前
已完结
Comparison of the Properties of Additively Manufactured 316L Stainless Steel for Orthopedic Applications: A Review
4天前
已完结
Application of optical emission spectroscopy for detection of alpha-gamma transition of RF capacitive discharge in nitrogen
1个月前
已关闭
Experimentalandsimulationstudiesofcapacitivelycoupledstructuredelectrodeplasmasatintermediatepressures
1个月前
已关闭
A General Circuit Model for rf Plasma Processing Equipment
2个月前
已关闭
High wet-etch resistance SiO2 films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition with 1,1,1-tris(dimethylamino)disilane
4个月前
已关闭
Ion extraction characteristics on a barium plasma produced between grounded parallel plate electrodes and a positively biased upper plate electrode
4个月前
已完结
Modeling the effect of stochastic heating and surface chemistry in a pure CF4 inductively coupled plasma
4个月前
已完结
Enhancing chemical vapor deposition growth and fabrication techniques to maximize hole conduction in tungsten diselenide for monolithic CMOS integration
5个月前
已完结
没有进行任何应助
谢谢
3小时前
已找到【积分已退回】
1年前
感谢,点赞,帮大忙了
1年前
帮大忙了,点赞,感谢
1年前
帮大忙了,感谢
1年前
帮大忙了,感谢
1年前
帮大忙了,感谢
1年前
帮大忙了,感谢
1年前
感谢,帮大忙了
1年前
最近帖子
最近评论
没有发布任何帖子
没有发布任何评论