SciHub
文献互助
期刊查询
一搜即达
科研导航
交流社区
登录
注册
发布
文献
求助
首页
我的求助
捐赠本站
已入深夜,您辛苦了!由于当前在线用户较少,发布求助请尽量完整的填写文献信息,科研通机器人24小时在线,伴您度过漫漫科研夜!祝你早点完成任务,早点休息,好梦!
Frank
Lv3
376 积分
2022-10-28 加入
最近求助
最近应助
互助留言
Study of dry etching process using SF6 and CF4/O2 for Nb/NbxSi1−x/Nb Josephson-junction fabrication
2个月前
已完结
Etch rates for micromachining processing-Part II
2个月前
已完结
Plasma etching of niobium with CF4/O2 gases
2个月前
已完结
Dry Etching of Nb and Fabrication of Nb Variable-Thickness-Bridges
2个月前
已完结
Low damage etching by Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etch (ICP-RIE) and Atomic Layer Etching (ALE) of III-V materials to enable next generation device performance
3个月前
已关闭
Atomic layer etching in close-to-conventional plasma etch tools
3个月前
已完结
CP etching of InP and related materials using photoresist as mask
4个月前
已完结
Photoelectrochemical etching of integral lenses on InGaAsP/InP light‐emitting diodes
4个月前
已完结
Band gap of hexagonal 2D photonic crystals with elliptical holes recorded by interference lithography
5个月前
已完结
Plasma-polymer interactions: A review of progress in understanding polymer resist mask durability during plasma etching for nanoscale fabrication
5个月前
已完结
没有进行任何应助
无回应【积分已退回】
5个月前
速度真快
9个月前
内容错误
9个月前
内容完全不符
10个月前
帮大忙了,感谢,么么哒,点赞
10个月前
点赞
1年前
帮大忙了
1年前
感谢
1年前
帮大忙了
1年前
速度真快
1年前
最近帖子
最近评论
没有发布任何帖子
没有发布任何评论