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Fabrication of low interface dipole layer on Al2O3/SiO2/Si structure by densification of interfacial layer
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Improved Interface and Electrical Properties by Inserting an Ultrathin SiO2 Buffer Layer in the Al2O3/Si Heterojunction
2个月前
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Fabrication of low interface dipole layer on Al2O3/SiO2/Si structure by densification of interfacial layer
Improved Interface and Electrical Properties by Inserting an Ultrathin SiO2 Buffer Layer in the Al2O3/Si Heterojunction
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