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lcb666
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NIST standard reference database number 69
5天前
已关闭
Theoretical Study on the Structures and Electronic Properties of Tungsten Fluorides at High Pressures
1个月前
已完结
Aluminum films prepared by metal-organic low pressure chemical vapor deposition
3个月前
已完结
没有进行任何应助
里面的文献是NIST standard reference database number 38,不是69,然后内容也比较少
5天前
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