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![]() 锥形Cu2O纳米线上脉冲激光沉积高k HfO2纳米粒子的电学表征:有前途的冷阴极应用
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期刊:Journal of Materials Science Materials in Electronics 作者:Sachin R. Suryawanshi; Raju T. Shisode; Krishna Jagtap; Dattatray J. Late; S.S. Suryavanshi; et al 出版日期:2021-03-12 |
求助人 |
langyu
在
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