| 标题 |
 Perspective on Low-dimensional Channel Materials for Extremely Scaled CMOS 极小尺寸CMOS低维沟道材料展望
相关领域
CMOS芯片
材料科学
晶体管
兴奋剂
接触电阻
缩放比例
光电子学
频道（广播）
纳米技术
逻辑门
电流（流体）
碳纳米管
电子工程
电气工程
工程类
电压
几何学
数学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：2022 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits) 作者：Sheng‐Kai Su; Edward Chen; Terry Y.T. Hung; Mengzhan Li; Gregory Pitner; et al 出版日期：2022-06-12 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
rocky15
Solomon
cctv18
shinysparrow
寻道图强
gjww
坚强的广山
沫豆
Maestro_S
阿大呆呆
寒雨
酸化土壤改良
HGalong
CWNU_HAN
Caesar
深情安青
宜醉宜游宜睡
Cindy
万能图书馆
Lucas
皖公网安备34019202002308
