Main properties of Al2O3 thin films deposited by magnetron sputtering of an Al2O3 ceramic target at different radio-frequency power and argon pressure and their passivation effect on p-type c-Si wafers

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标题	Main properties of Al2O3 thin films deposited by magnetron sputtering of an Al2O3 ceramic target at different radio-frequency power and argon pressure and their passivation effect on p-type c-Si wafers
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2016.10.049
DOI	10.1016/j.tsf.2016.10.049 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：J.A. García-Valenzuela; R. Rivera; A.B. Morales-Vilches; L.G. Gerling; A. Caballero; et al 出版日期：2016
求助人	小吴在 2026-04-29 20:09:10 发布自美国，悬赏 10 积分
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