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![]() 几个形成参数对HF/HNO3中用银辅助蚀刻制备多孔硅的影响及其与染色蚀刻方法的比较
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期刊:Silicon 作者:A.S. Mogoda; A. R. Farag 出版日期:2022-04-11 |
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席慕容
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2025-08-28 20:33:50 发布,悬赏 10 积分
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