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 Investigation of Selective Wet Etching of SiGe Substrates for High-Performance Device Manufacturing 用于高性能器件制造的SiGe衬底选择性湿法刻蚀研究
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期刊：Solid State Phenomena 作者：Dong Gyu Kim; Guy Vereecke; Pallavi Puttarame Gowda; Kurt Wostyn; Tae‐Gon Kim; et al 出版日期：2023-08-14 |
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