Towards molecular-scale kinetic Monte Carlo simulation of pattern formation in photoresist materials for EUV nanolithography

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标题	Towards molecular-scale kinetic Monte Carlo simulation of pattern formation in photoresist materials for EUV nanolithography EUV纳米光刻用光刻胶材料图案形成的分子尺度动力学蒙特卡罗模拟相关领域蒙特卡罗方法光刻胶动力学蒙特卡罗方法电子极紫外光刻极端紫外线散射光子计算物理学物理材料科学动能光学纳米技术激光器核物理学量子力学统计数学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2658404
DOI	10.1117/12.2658404 doi
其它	期刊：作者：Lois Fernandez Miguez; P. A. Bobbert; R. Coehoorn 出版日期：2023-05-01
求助人	洛尘在 2025-04-10 19:40:59 发布自云南，悬赏 20 积分
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