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标题
Electrical Characteristics of RRAM with HfO2Annealing Temperatures and Thickness
HfO2退火温度和厚度对RRAM电学特性的影响
相关领域
电阻随机存取存储器 材料科学 复合材料 工程物理 光电子学 电气工程 工程类 电压
网址
AI链接 re.krdoi.org
DOI
10.6109/jkiice.2014.18.3.663 doi
其它 期刊:Han-guk jeongbo tongsin hakoe nonmunji
作者:Jin Sik Choi; Chong Gun Yu; Jong‐Tae Park
出版日期:2014-03-31
求助人
jerry 在 2024-05-16 10:08:59 发布自浙江,悬赏 10 积分
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