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 Behaviors of carrier concentrations and mobilities in indium–tin oxide thin films by DC magnetron sputtering at various oxygen flow rates 不同氧流量下直流磁控溅射铟锡氧化物薄膜中载流子浓度和迁移率的行为
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期刊：Vacuum 作者：Ho-Chul Lee; O. Ok Park 出版日期：2004-12-01 |
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