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  Uniformity improvement of Josephson-junction resistance by considering sidewall deposition during shadow evaporation for large-scale integration of qubits 量子比特大规模集成阴影蒸发中考虑侧壁沉积对约瑟夫森结电阻均匀性的改善
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Tsuyoshi Takahashi; Norinao Kouma; Yoshiyasu Doi; Shintaro Sato; Shuhei Tamate; et al 出版日期：2022-11-14 |
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