| 标题 |
 Characteristics of Nb2O5 thin films deposited by ion beam sputtering 相关领域
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| DOI |
10.1016/j.apsusc.2008.07.071
doi
提醒：求助人提供的doi与AI识别不一致
10.7498/aps.60.047803
Doi
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| 求助人 |
研友_Z600mL
在
2020-05-26 22:06:45 发布，悬赏 10 积分
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