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 Extreme ultraviolet microexposures at the Advanced Light Source using the 0.3 numerical aperture micro-exposure tool optic 使用0.3数值孔径微曝光工具光学系统在先进光源下的极紫外微曝光
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Patrick Naulleau; Kenneth A. Goldberg; Erik H. Anderson; Jason P. Cain; Paul Denham; et al 出版日期：2004-11-01 |
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