| 标题 |
 Structure and Electrical Properties of ZrO2/Al2O3/TiO2 Films Grown Via Atomic Layer Deposition on TiN Electrodes TiN电极上原子层沉积ZrO2/Al2O3/TiO2薄膜的结构和电学性能
相关领域
材料科学
电介质
原子层沉积
锡
薄膜
电容
基质（水族馆）
图层（电子）
电极
高-κ电介质
结晶
泄漏（经济）
带隙
光电子学
复合材料
纳米技术
化学工程
冶金
化学
工程类
地质学
宏观经济学
物理化学
经济
海洋学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者：Soon Hyung; Cheol Hyun An; Sanghyeon Kim; Dong Gun Kim; Dae Seon Kwon; et al 出版日期：2018-04-13 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
WaitP
孤独尔白
剑指东方是为谁
随遇而安
bc
斯寜
YifanWang
核桃
pcr163
MchemG
诸葛御风
jyy
七慕凉
优秀的流沙
genomed
Alex
繁荣的心情
SYLH
调皮黑猫
平常的毛豆
皖公网安备34019202002308
