标题 |
Fabrication of Sub-Lithography-Limited Structures via Nanomasking Technique for Plasmonic Enhancement Applications
用于等离子体增强应用的纳米掩模亚光刻限制结构的制备
相关领域
等离子体子
制作
平版印刷术
材料科学
纳米技术
纳米光刻
纳米结构
光电子学
下一代光刻
电子束光刻
抵抗
图层(电子)
医学
替代医学
病理
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:IEEE transactions on nanotechnology 作者:Stephen J. Bauman; Eric Novak; Desalegn T. Debu; Douglas Natelson; Joseph B. Herzog 出版日期:2015-09-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|