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标题
Physical‐Electrical Properties of Silicon Nitride Deposited by PECVD on III–V Semiconductors
III-V族半导体上PECVD沉积氮化硅的物理电学特性
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网址
http://dx.doi.org/10.1149/1.2086326
DOI
10.1149/1.2086326 doi
求助人
谨慎元蝶 在 2024-09-03 10:26:46 发布自北京，悬赏 10 积分
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