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Source-mask co-optimization study for typical EUV design rule patterns with 40nm minimum pitch 最小间距40nm典型EUV设计规则图案的源掩膜协同优化研究
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期刊: 作者:Qi Wang; Xianhe Liu; Qiang Wu; Minghao Yin; Yanli Li 出版日期:2024-12-10 |
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