| 标题 |
  In-depth study of silicon-oxide thin films: Effect of N2O/SiH4 gas mixture 氧化硅薄膜的深入研究：N2O/SiH4气体混合物的影响
相关领域
材料科学
氧化硅
硅
等离子体增强化学气相沉积
氧化物
折射率
带隙
薄膜
微观结构
化学气相沉积
光电子学
分析化学（期刊）
纳米技术
复合材料
化学
氮化硅
冶金
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Nucleation and Atmospheric Aerosols 作者：Pavel Calta; P. Šutta; Rostislav Medlín; J. Minář 出版日期：2024-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
嘻嘻哈哈
Momomo
浮浮世世
GingerF
Huzhu
小愿张
YifanWang
VDC
从容芮
大龙哥886
遇上就这样吧
MchemG
爆米花
小伙子
kentonchow
不配.
无极微光
不安青牛
Vickicherry
谢绍博
Yini
风清扬
xxfsx
皖公网安备34019202002308
