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Addressing sunlight reactivity in high-refractive-index nano-imprint lithography (NIL) resins 解决高折射率纳米压印光刻(NIL)树脂的阳光反应性
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期刊: 作者:Chau Ha; Martin Newcomb; Koji Maekawa; Patrick Schuster; Thomas Achleitner 出版日期:2025-03-21 |
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