Addressing sunlight reactivity in high-refractive-index nano-imprint lithography (NIL) resins

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标题	Addressing sunlight reactivity in high-refractive-index nano-imprint lithography (NIL) resins 解决高折射率纳米压印光刻(NIL)树脂的阳光反应性相关领域折射率平版印刷术材料科学纳米- 光学反应性（心理学）阳光索引（排版）光电子学纳米技术计算机科学复合材料物理万维网病理医学替代医学
网址	https://doi.org/10.1117/12.3040569
DOI	10.1117/12.3040569 doi
其它	期刊：作者：Chau Ha; Martin Newcomb; Koji Maekawa; Patrick Schuster; Thomas Achleitner 出版日期：2025-03-21
求助人	cyx165025087 在 2025-12-14 20:42:30 发布自吉林，悬赏 20 积分
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