标题 |
Nanotribological Properties of ALD-Made Ultrathin MoS2 Influenced by Film Thickness and Scanning Velocity
薄膜厚度和扫描速度对ALD超薄MoS2纳米摩擦学性能的影响
相关领域
纳米机电系统
材料科学
原子层沉积
微电子机械系统
纳米核糖学
纳米技术
表面粗糙度
粘附
复合材料
润滑性
表面光洁度
原子力显微镜
粘着
图层(电子)
薄膜
纳米-
纳米颗粒
纳米医学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Langmuir 作者:Yazhou Huang; Lei Liu; Junjie Yang; Yunfei Chen 出版日期:2019-02-20 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|