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Chemical dry etching of silicon nitride and silicon dioxide using CF4/O2/N2 gas mixtures
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网址
https://doi.org/10.1116/1.580203
DOI
10.1116/1.580203 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：B. E. E. Kastenmeier; P. J. Matsuo; JJ Beulens; G. S. Oehrlein
出版日期：1996-09-01
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一路生花 在 2025-10-13 12:00:39 发布自中国，悬赏 10 积分
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